近日，全球光刻机巨头ASML首次向媒体公开了其最新一代高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机，这台被誉为“芯片制造皇冠上的明珠”的设备，单台造价高达4亿美元（约合人民币29亿元），是目前世界上最先进、最昂贵的光刻机。

　　

　　比双层巴士还大，运输需7架波音747

　　

这台光刻机的体积远超想象——高度超过一间会议室，长度堪比双层巴士，重量达150吨，需要拆分成250个板条箱运输。ASML工作人员透露，运送一套完整的High-NA光刻机需要7架波音747货机或25辆重型卡车。

　　性能碾压前代，生产效率翻倍

　　High-NA EUV光刻机的核心优势在于其0.55数值孔径（NA），远超上一代0.33 NA的EUV光刻机，能直接在晶圆上刻印8纳米线宽，比传统EUV光刻机缩小1.7倍。英特尔已率先投入使用，数据显示：

　　-生产效率提升2倍，每小时可曝光400~500片晶圆，远超标准EUV的200片。

　　

-可靠性翻倍，仅需一次曝光即可完成传统EUV三次曝光的工作，大幅节省时间和成本。

　　全球仅5台交付，英特尔独占先机

　　

目前，ASML仅交付了5台High-NA光刻机，英特尔包揽首批订单，并已在其俄勒冈工厂投产，用于研发18A（1.8纳米）和14A（1.4纳米）制程。台积电和三星预计2025年后才能获得设备。

　　未来展望：2030年或迎下一代Hyper-NA

ASML已开始规划下一代Hyper-NA光刻机，预计2032-2035年问世，进一步推动芯片制造极限。

　　结语：

　　这台天价光刻机不仅是科技的巅峰之作，更是全球芯片竞赛的核心武器。随着AI、5G等技术的爆发，谁能率先掌握High-NA技术，谁就能在未来的半导体战争中占据制高点。